Застосування явища поверхневого плазмонного резонансу для контролю процесу полімеризації оптичних клеїв

Автор(и)

  • Гліб Вячеславович Дорожинський Інституту фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України
  • Ганна Василівна Дорожинська Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»
  • Володимир Петрович Маслов Інститут фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України

DOI:

https://doi.org/10.31649/1681-7893-2018-35-1-65-72

Ключові слова:

поверхневий плазмовий резонанс, показник заломлення, клей, полімеризація, ультрафіолетове випромінювання

Анотація

Запропоновано метод на основі явища поверхневого плазмонного резонансу для контролю у реальному часі процесу полімеризації оптичних клеїв, що показано на прикладі фотополімерних клеїв марок Akrol-3-360 і UV630. По розрахованим швидкостям та тривалості фотополімеризації визначено, що клей марки UV630 має на 25% більшу швидкість полімеризації та майже у два рази менший термін полімеризації, ніж клей марки Akrol-3-360.

Біографії авторів

Гліб Вячеславович Дорожинський, Інституту фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України

кандидат технічних наук, старший науковий співробітник

Ганна Василівна Дорожинська, Національний технічний університет України «Київський політехнічний інститут імені Ігоря Сікорського»

аспірант

Володимир Петрович Маслов, Інститут фізики напівпровідників ім. В. Є. Лашкарьова НАН України

доктор технічних наук, професор, завідуючий відділом “Сенсорного матеріалознавства

##submission.downloads##

  • PDF
    Завантажень: 263
Переглядів анотації: 311

Опубліковано

2019-06-14

Як цитувати

[1]
Г. В. Дорожинський, Г. В. Дорожинська, і В. П. Маслов, «Застосування явища поверхневого плазмонного резонансу для контролю процесу полімеризації оптичних клеїв», Опт-ел. інф-енерг. техн., вип. 35, вип. 1, с. 65–72, Чер 2019.

Номер

Том 35 № 1 (2018)

Розділ

Оптико-електронні пристрої та компоненти в лазерних і енергетичних технологіях

Метрики

Завантаження

Дані завантаження ще не доступні.

Ліцензія

Автори, які публікуються у цьому журналі, погоджуються з наступними умовами:

  1. Автори залишають за собою право на авторство своєї роботи та передають журналу право першої публікації цієї роботи на умовах ліцензії Creative Commons Attribution License, котра дозволяє іншим особам вільно розповсюджувати опубліковану роботу з обов'язковим посиланням на авторів оригінальної роботи та першу публікацію роботи у цьому журналі.
  2. Автори мають право укладати самостійні додаткові угоди щодо неексклюзивного розповсюдження роботи у тому вигляді, в якому вона була опублікована цим журналом (наприклад, розміщувати роботу в електронному сховищі установи або публікувати у складі монографії), за умови збереження посилання на першу публікацію роботи у цьому журналі.
  3. Політика журналу дозволяє і заохочує розміщення авторами в мережі Інтернет (наприклад, у сховищах установ або на особистих веб-сайтах) рукопису роботи, як до подання цього рукопису до редакції, так і під час його редакційного опрацювання, оскільки це сприяє виникненню продуктивної наукової дискусії та позитивно позначається на оперативності та динаміці цитування опублікованої роботи (див. The Effect of Open Access).